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Aperçu ProduitsPlaquette Ga2O3

Épaisseur monocristalline polie latérale simple de substrat de Ga2O3 0.6mm 0.8mm

Certificat
LA CHINE Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd. certifications
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Épaisseur monocristalline polie latérale simple de substrat de Ga2O3 0.6mm 0.8mm

Épaisseur monocristalline polie latérale simple de substrat de Ga2O3 0.6mm 0.8mm
Épaisseur monocristalline polie latérale simple de substrat de Ga2O3 0.6mm 0.8mm

Image Grand :  Épaisseur monocristalline polie latérale simple de substrat de Ga2O3 0.6mm 0.8mm

Détails sur le produit:
Lieu d'origine: Suzhou Chine
Nom de marque: GaNova
Certification: UKAS/ISO9001:2015
Numéro de modèle: JDCD04-001-006
Conditions de paiement et expédition:
Détails d'emballage: Emballage sous vide dans un environnement de salle blanche de classe 10000, dans des cassettes de 6
Délai de livraison: 3-4 jours de la semaine

Épaisseur monocristalline polie latérale simple de substrat de Ga2O3 0.6mm 0.8mm

description de
Ra: ≤0.5nm Épaisseur: 0.6~0.8mm
Nom de produit: Crystal Substrate simple Surface polie: Côté simple poli
Orientation: (010) FWHM: <350arcsec>
Mettre en évidence:

Substrat de Ga2O3 poli sur le côté

,

substrat d'oxyde de gallium de 0

,

8 mm

Ga poli simple face2O3Épaisseur du substrat monocristallin 0,6 ~ 0,8 mm

10x15mm2(010) Ga autoportant dopé au Sn2O3substrat monocristallin Polissage unique de qualité produit Épaisseur 0,6 ~ 0,8 mm FWHM < 350 arcsec, Ra≤ 0,5 nm Résistance 2,00E + 17 Ω/cm-3Dispositifs optoélectroniques, couches isolantes de matériaux semi-conducteurs et filtres UV

 

Le GaN gagne en importance en raison de sa capacité à offrir des performances considérablement améliorées dans une large gamme d'applications tout en réduisant l'énergie et l'espace physique nécessaires pour fournir ces performances par rapport aux technologies conventionnelles au silicium.

Le silicium est depuis longtemps le matériau de choix pour la fabrication de produits électroniques clés, y compris tout, des ordinateurs et smartphones aux téléviseurs et appareils photo.

 

Substrat de nitrure de gallium--Niveau de recherche
Dimension 10*15mm 10*10mm
Épaisseur 0,6 ~ 0,8 mm
Orientation (010)
Se doper Sn
Surface polie Poli d'un seul côté
Résistivité/Nd-Na 2.00E+17 1.53E+18
FWHM <350 secondes d'arc
Ra ≤0.5nm
Emballer Conditionné en salle blanche classe 100, sous atmosphère d'azote

 

 

À propos de nous

Nous nous spécialisons dans le traitement d'une variété de matériaux en plaquettes, substrats et pièces en verre optique personnalisées. Composants largement utilisés dans l'électronique, l'optique, l'optoélectronique et de nombreux autres domaines.Nous avons également travaillé en étroite collaboration avec de nombreuses universités, institutions de recherche et entreprises nationales et étrangères, fournissant des produits et services personnalisés pour leurs projets de R&D.C'est notre vision de maintenir une bonne relation de coopération avec tous nos clients grâce à notre bonne réputation.

 

 

FAQ

Q : Êtes-vous une société commerciale ou un fabricant ?
Nous sommes usine.
Q : Combien de temps dure votre délai de livraison ?
Généralement, il est de 3 à 5 jours si les marchandises sont en stock.
ou c'est 7-10 jours si les marchandises ne sont pas en stock, c'est selon la quantité.
Q : Fournissez-vous des échantillons ?est-ce gratuit ou en supplément ?
Oui, nous pourrions offrir l'échantillon gratuitement mais ne payons pas les frais de transport.
Q : Quelles sont vos conditions de paiement ?
Paiement <=5000USD, 100% à l'avance.
Paymen> = 5000USD, 80% T/T à l'avance, solde avant expédition.

 

Coordonnées
Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

Personne à contacter: Xiwen Bai (Ciel)

Téléphone: +8613372109561

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